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多光谱硫化锌高表面质量CMP工艺参数优化研究
现代应用光学 | 更新时间：2026-09-11
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    • 多光谱硫化锌高表面质量CMP工艺参数优化研究

    • Optimization of process parameters of multi-spectral ZnS CMP with high surface quality

    • “针对多光谱硫化锌化学机械抛光表面质量难题，研究团队围绕平面度与粗糙度协同优化开展实验，通过单因素实验与响应曲面法结合灰色关联法分析，确定了抛光盘转速为主导影响因素，优化后工件表面平面度PV达112.49 nm，粗糙度Sa降至1.11 nm，为其在高性能光学器件中的应用提供技术支持。”
    • 任佳曈 ，秦琳 ，朱蓓蓓 ，蔡根 ，楚建宁 ，张楚鹏 ，陈肖
    • 光学精密工程 2025年33卷第18期 页码：2868-2881

    • DOI： 10.37188/OPE.20253318.2868     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20253318.2868     

    • 修回：2025-07-29 ，

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