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双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11
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    • 双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜

    • Low-voltage and compact MEMS micromirror based on double-mask silicon-glass bonding unequal height process

    • “研究人员提出一种基于硅-玻璃键合不等高工艺的小型化MEMS静电驱动微镜，采用双层掩膜与分步刻蚀技术制备出具有高度差的垂直梳齿结构，实现了有效的垂直方向静电驱动，为严格限制功耗与尺寸的光通信系统提供了一种高效的技术方案。”
    • 历润龙 ，孙治宇 ，杜晨喆 ，卢文娟 ，赵前程
    • 光学精密工程 2026年34卷第5期 页码：734-742

    • DOI： 10.37188/OPE.20263405.0734     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20263405.0734     

    • 修回：2026-01-18 ，

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郜晨希
解婧
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宋宏岩
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中国科学院微电子研究所
中国科学院大学
贵州大学 大数据与信息工程学院
贵州省光电子技术及应用重点实验室
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