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基于双离子束溅射沉积工艺优化的极紫外多层反射薄膜界面质量提升
现代应用光学 | 更新时间：2026-09-11
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    • 基于双离子束溅射沉积工艺优化的极紫外多层反射薄膜界面质量提升

    • Improving of interfacial quality of extreme ultraviolet multilayer reflective film based on process optimization of dual ion beam sputtering deposition

    • “Mo-Si多层膜沉积过程中，Mo与Si原子间的自发热力学混合极易生成硅化物过渡层，研究人员提出斜角沉积与掠角刻蚀相结合的复合优化工艺，将扩散层厚度压减至0.6 nm，为EUV高反射膜系制造提供了潜在可行的工艺指导。”
    • 陈艺勤 ，冀鸣 ，邵秋 ，刘伟基 ，李弋舟 ，段辉高
    • 光学精密工程 2026年34卷第7期 页码：1087-1096

    • DOI： 10.37188/OPE.20263407.1087     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20263407.1087     

    • 修回：2026-03-03 ，

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