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单模硅波导与光栅耦合器在干法刻蚀中的系统性工艺偏差分析
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11
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    • 单模硅波导与光栅耦合器在干法刻蚀中的系统性工艺偏差分析

    • Systematic process variation analysis of single-mode silicon waveguides and grating couplers during dry etching

    • “8英寸SOI平台光刻与干法刻蚀工艺的晶圆级均匀性研究取得进展，研究人员系统评估了工艺偏差对硅光无源器件性能的影响，为晶圆级良率提升提供了实验参考和工艺优化依据。”
    • 刘永康 ，张怡梦 ，包晓清 ，戴代强 ，王漱明
    • 光学精密工程 2026年34卷第15期 页码：2378-2388

    • DOI： 10.37188/OPE.20263415.2378     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20263415.2378     

    • 修回：2026-06-26 ，

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相关作者

罗霄
郑立功
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相关机构

中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室
中国科学院 研究生院