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更新时间：2020-08-12

- 内应力
- Optics and Precision Engineering Vol. 0, Issue 3, Pages: 45-48(1978)
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- Published Online：15 June 1978，
  
  Published：15 June 1978
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李懋廉, 施评治. 内应力[J]. 光学精密工程, 1978,(3): 45-48

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1978,(3): 45-48
李懋廉, 施评治. 内应力[J]. 光学精密工程, 1978,(3): 45-48 DOI：

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1978,(3): 45-48 DOI：

摘要

很久以来

人们就已了解

在基底上生长的薄膜通常都存在很大的内应力。这些应力能够使薄膜产生裂纹(由张应力造成)或产生皱折(由压应力所造成)而破坏。例如对于应用在小型电子器件中的薄膜这是很严重的妨碍。应力也可以引起某些特殊量的各向异性

例如铁磁薄膜的磁化或电介质薄膜的折射率。要求制备没有应办的金属和电介质两种薄膜大大推动了应力的研究工作。

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