高频溅射光学保护膜的研究

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高频溅射光学保护膜的研究

更新时间：2020-08-12

- 高频溅射光学保护膜的研究
- Optics and Precision Engineering Vol. 0, Issue 2, Pages: 27-30(1982)
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  CLC：
- Published Online：15 April 1982，
  
  Published：15 April 1982
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蒋廷楠, 蒋朝江. 在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 17-21

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 17-21
蒋廷楠, 蒋朝江. 在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 17-21 DOI：

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 17-21 DOI：

摘要

为使不耐潮湿的光学元件

特别是化学稳定性差的一些高折射率光学玻璃

易潮解的光学晶体

多层介质光学薄膜等能在宇宙技术或海洋作业等恶劣环境下使用

近年来国内外很重视有关光学保护膜的研究

采用高频溅射技术制备聚全氟乙丙烯保护膜。

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