CASTENMILLER T ， DE MAST FVAN ， DE KORT T ， et al . Towards ultimate optical lithography with NXT： 1950i dual stage immersion platform ［C］. Optical Microlithography XXIII . San Jose， California. SPIE ， 2010 ， 7640 ： 76401N .

HABARA H ， XU G ， JITSUNO T ， et al . Pulse compression and beam focusing with segmented diffraction gratings in a high-power chirped-pulse amplification glass laser system ［J］. Optics Letters ， 2010 ， 35 （ 11 ）： 1783 - 1785 .

AFZAL R S ， HONEA E ， SAVAGE-LEUCHS M ， et al . Spectrally beam combined fiber lasers for high power， efficiency， and brightness ［C］. SPIE Security + Defence. Proc SPIE 8547 ， High-Power Lasers 2012： Technology and Systems ， Edinburgh ， United Kingdom . 2012 ， 8547 ： 854706 .

HARRISON G R ， THOMPSON S W ， KAZUKONIS H ， et al . 750-mm ruling engine producing large gratings and echelles ［J］. JOSA ， 1972 ， 62 （ 6 ）： 751 - 756 .

ZHU F ， MA J Y ， HUANG W ， et al . Parallel laser writing system with scanning Dammann lithography ［J］. Chinese Optics Letters ， 2014 ， 12 （ 8 ）： 080501 .

SCHATTENBURG M L ， CHEN C ， EVERETT P N ， et al . Sub-100 nm metrology using interferometrically produced fiducials ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B： Microelectronics and Nanometer Structures ， 1999 ， 17 （ 6 ）： 2692 .

DIXIT S ， BRITTEN J ， HYDE R ， et al .. Fabrication and applications of large aperture diffractive optics ［J］. SPIE ， 2001 ， 4440 ： 101 - 108 .

BRITTEN J A ， MOLANDER W A ， KOMASHKO A M ， et al . Multilayer dielectric gratings for petawatt-class laser systems ［C］. XXXV Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers ： Boulder Damage Symposium. Proc SPIE 5273 ， Laser-Induced Damage in Optical Materials： 2003， Boulder ， Colorado ， USA . 2004， 5273 ： 1 - 7 .

TURUKHANO B G ， GORELIK V P ， KOVALENKO S N ， et al . Phase synthesis of a holographic metrological diffraction grating of unlimited length ［J］. Optics & Laser Technology ， 1996 ， 28 （ 4 ）： 263 - 268 .

钱国林 ， 吴建宏 ， 李朝明 . 单基片多次曝光实现光栅拼接的理论分析 ［J］. 光学仪器 ， 2008 ， 30 （ 6 ）： 81 - 85 .

QIAN G L ， WU J H ， LI CH M . Theoretical analysis of tiled grating by multiple-exposure hologram on single substrate ［J］. Optical Instruments ， 2008 ， 30 （ 6 ）： 81 - 85 . （in Chinese）

NAPIER B R ， PHILLIPS N J . Use of real-time latent images to write long holographic diffraction gratings in photoresist ［C］. Proc SPIE 3011 ， Practical Holography XI and Holographic Materials III ， 1997 ， 3011 ： 182 - 193 .

ZENG L J ， LI L F . Optical mosaic gratings made by consecutive， phase-interlocked， holographic exposures using diffraction from latent fringes ［J］. Optics Letters ， 2007 ， 32 （ 9 ）： 1081 - 1083 .

SHI L ， ZENG L J . Fabrication of optical mosaic gratings by consecutive holographic exposures employing a latent-fringe based alignment technique ［C］. Photonics Asia 2010 . Proc SPIE 7848， Holography ， Diffractive Optics ， and Applications IV， Beijing ， China . 2010， 7848 ： 78480S .

SHI L ， ZENG L J ， LI L F . Fabrication of optical mosaic gratings with phase and attitude adjustments employing latent fringes and a red-wavelength dual-beam interferometer ［J］. Optics Express ， 2009 ， 17 （ 24 ）： 21530 - 21543 .

SHI L ， ZENG L J . Fabrication of optical mosaic gratings： a self-referencing alignment method ［J］. Optics Express ， 2011 ， 19 （ 10 ）： 8985 - 8993 .

石磊 . 大尺寸衍射光栅的制造——基于潜像的曝光拼接方法 ［D］. 北京 ： 清华大学 ， 2011 .

SHI L . Fabrication of Large-size Diffraction Gratings--Latent-image-based Optical Mosaic Technique ［D］. Beijing ： Tsinghua University ， 2011 . （in Chinese）

KONKOLA P . Design and Analysis of A Scanning Beam Interference Lithography System for Patterning Gratings with Nanometer-level Distortions ［D］. Cambridge ： Massachusetts Institute of Technology ， 2003 .

CHEN C . Beam Alignment and Image Metrology for Scanning Beam Interference Lithography-fabricating Gratings with Nanometer Phase Accuracy ［D］. Cambridge ： Massachusetts Institute of Technology ， 2003 .

MONTOYA J . Toward Nano-accuracy in Scanning Beam Interference Lithography ［D］. Cambridge ： Massachusetts Institute of Technology ， 2006 .

CHANG C H . Multilevel Interference Lithography-fabricating Sub-wavelength Periodic Nanostructures ［D］. Cambridge ： Massachusetts Institute of Technology ， 2008 .

ZHAO Y . Ultra-high Precision Scanning Beam Interference Lithography and its Application- Spatial Frequency Multiplication ［D］. Cambridge ： Massachusetts Institute of Technology ， 2008 .

MONTOYA J C ， CHANG C H ， HEILMANN R K ， et al . Doppler writing and linewidth control for scanning beam interference lithography ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B： Microelectronics and Nanometer Structures ， 2005 ， 23 （ 6 ）： 2640 .

PATI G S ， HEILMANN R K ， KONKOLA P T ， et al . Generalized scanning beam interference lithography system for patterning gratings with variable period progressions ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B： Microelectronics and Nanometer Structures ， 2002 ， 20 （ 6 ）： 2617 .

SCHATTENBURG M ， CHANG C ， HEILMANN R ， et al .. Advanced interference lithography for nanomanufacturing ［J］. Proceedings of International Symposium on Nanomanufacturing ， 2006 ， 44 .

JITSUNO T ， MOTOKOSHI S ， OKAMOTO T ， et al . Development of 91 cm size gratings and mirrors for LEFX laser system ［J］. Journal of Physics： Conference Series ， 2008 ， 112 （ 3 ）： 032002 .

HAEFNER M ， PRUSS C ， OSTEN W . Laser direct writing of rotationally symmetric high-resolution structures ［J］. Applied Optics ， 2011 ， 50 （ 31 ）： 5983 - 5989 .

宋莹 . 全息光栅曝光系统干涉条纹静态及动态相位锁定技术研究 ［D］. 长春 ： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ， 2014 .

SONG Y . Research on the Interference Fringe Static and Dynamic Phase-locking Technology in the Lithography System of the Holographic Grating ［D］. Changchun ： Changchun Institute of Optics ， Fine Mechanics and Physics ， Chinese Academy of Sciences， 2014 . （in Chinese）

姜珊 . 扫描干涉场曝光系统干涉条纹测量与调整方法研究 ［D］. 长春 ： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ， 2015 .

JIANG SH . Study on Measurement and Adjustment of Interference Fringes for Scanning Beam Interference Lithography System ［D］. Changchun ： Changchun Institute of Optics ， Fine Mechanics and Physics ， Chinese Academy of Sciences， 2015 . （in Chinese）

王玮 . 扫描干涉场曝光系统光束质量控制方法研究 ［D］. 长春 ： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ， 2017 .

WANG W . Study on Beam Quality Control of the Scanning Beam Interference Lithography System ［D］. Changchun ： Changchun Institute of Optics ， Fine Mechanics and Physics ， Chinese Academy of Sciences， 2017 . （in Chinese）

刘兆武 . 扫描干涉场曝光系统光栅衍射波前控制方法研究 ［D］. 长春 ： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ， 2017 .

LIU ZH W . Study on Wavefront Control of Grating Diffraction on Scanning Beam Interference Lithography System ［D］. Changchun ： Changchun Institute of Optics ， Fine Mechanics and Physics ， Chinese Academy of Sciences， 2017 . （in Chinese）

MA D H ， ZENG L J . Fabrication of low-stray-light gratings by broad-beam scanning exposure in the direction perpendicular to the grating grooves ［J］. Optics Letters ， 2015 ， 40 （ 7 ）： 1346 - 1349 .

ZHU Y ， WANG L J ， ZHANG M ， et al . Novel homodyne frequency-shifting interference pattern locking system ［J］. Chinese Optics Letters ， 2016 ， 14 （ 6 ）： 061201 .

朱煜 ， 王磊杰 ， 张鸣 ， 等 . 扫描干涉光刻机光束位姿自动准直系统设计 ［J］. 清华大学学报：自然科学版 ， 2015 ， 55 （ 7 ）： 716 - 721， 733 .

ZHU Y ， WANG L J ， ZHANG M ， et al . Design of beam pose automatic alignment system for an interference lithography scanner ［J］. Journal of Tsinghua University： Science and Technology ， 2015 ， 55 （ 7 ）： 716 - 721， 733 . （in Chinese）

王磊杰 ， 张鸣 ， 鲁森 ， 等 . 零差移频式干涉图形相位锁定系统的超精密控制 ［J］. 光学 精密工程 ， 2017 ， 25 （ 5 ）： 1213 - 1221 .

WANG L J ， ZHANG M ， LU S ， et al . Ultra-precision control of homodyne frequency-shifting interference pattern phase locking system ［J］. Opt. Precision Eng. ， 2017 ， 25 （ 5 ）： 1213 - 1221 . （in Chinese）

王磊杰 ， 张鸣 ， 朱煜 ， 等 . 扫描干涉光刻机相位锁定系统设计 ［J］. 清华大学学报：自然科学版 ， 2015 ， 55 （ 7 ）： 722 - 727 .

WANG L J ， ZHANG M ， ZHU Y ， et al . Design of phase locking system for an interference lithography scanner ［J］. Journal of Tsinghua University： Science and Technology ， 2015 ， 55 （ 7 ）： 722 - 727 . （in Chinese）

王磊杰 ， 张鸣 ， 朱煜 ， 等 . 超精密外差利特罗式光栅干涉仪位移测量系统 ［J］. 光学 精密工程 ， 2017 ， 25 （ 12 ）： 2975 - 2985 .

WANG L J ， ZHANG M ， ZHU Y ， et al . A displacement measurement system for ultra-precision heterodyne littrow grating interferometer ［J］. Opt. Precision Eng. ， 2017 ， 25 （ 12 ）： 2975 - 2985 . （in Chinese）

鲁森 ， 杨开明 ， 朱煜 ， 等 . 用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制 ［J］. 光学学报 ， 2017 ， 37 （ 10 ）： 210 - 218 .

LU S ， YANG K M ， ZHU Y ， et al . Design and control of ultra-precision fine positioning stage for scanning beam interference lithography ［J］. Acta Optica Sinica ， 2017 ， 37 （ 10 ）： 210 - 218 . （in Chinese）

李民康 ， 向显嵩 ， 周常河 ， 等 . 基于超精密激光直写系统制作二维光栅 ［J］. 光学学报 ， 2019 ， 39 （ 9 ）： 38 - 46 .

LI M K ， XIANG X S ， ZHOU CH H ， et al . Two-dimensional grating fabrication based on ultra-precision laser direct writing system ［J］. Acta Optica Sinica ， 2019 ， 39 （ 9 ）： 38 - 46 . （in Chinese）