Nanosecond extreme ultraviolet radiation damage on thin film mirrors

LI Wenbin; LI Shuhui; PAN Liuyang; ZHANG Zhe; XIE Chun; HUANG Qiushi; WANG Zhanshan

doi:10.37188/OPE.20223021.2698

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

Nanosecond extreme ultraviolet radiation damage on thin film mirrors

更新时间：2022-11-22

- Nanosecond extreme ultraviolet radiation damage on thin film mirrors
- Optics and Precision Engineering Vol. 30, Issue 21, Pages: 2698-2710(2022)
- 作者机构：
  
  1.同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所，先进微结构材料教育部;重点实验室，上海市数字光学前沿科学研究基地，上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台，上海 200092
  2.同济大学中德工程学院，上海 200092
- 作者简介：
  
  E-mail： wangzs@tongji.edu.cn
- 基金信息：
- DOI：10.37188/OPE.20223021.2698
  CLC： O434.14
- Received：15 July 2022，
  
  Revised：22 August 2022，
  
  Published：10 November 2022
- 稿件说明：
移动端阅览
李文斌,李淑慧,潘刘洋等.薄膜反射镜纳秒极紫外辐照损伤[J].光学精密工程,2022,30(21):2698-2710.

LI Wenbin,LI Shuhui,PAN Liuyang,et al.Nanosecond extreme ultraviolet radiation damage on thin film mirrors[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(21):2698-2710.
李文斌,李淑慧,潘刘洋等.薄膜反射镜纳秒极紫外辐照损伤[J].光学精密工程,2022,30(21):2698-2710. DOI： 10.37188/OPE.20223021.2698.

LI Wenbin,LI Shuhui,PAN Liuyang,et al.Nanosecond extreme ultraviolet radiation damage on thin film mirrors[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(21):2698-2710. DOI： 10.37188/OPE.20223021.2698.

摘要

随着超短超强自由电子激光等光源的应用，极紫外、X射线波段薄膜反射镜的抗辐照性能备受关注。本文介绍了IPOE实验室搭建的纳秒极紫外辐照损伤装置，并对极紫外-X射线自由电子激光常用的B

C薄膜反射镜、Au和Ru金属单层膜反射镜、B

C/Ru双层膜反射镜以及极紫外光刻用Mo/Si多层膜反射镜开展了辐照损伤测试，获得了不同材料和结构的薄膜反射镜抗损伤性能，结合理论模拟揭示了热熔融、热应力和膜层间扩散反应等损伤机制的作用。

Abstract

Owing to an increased application of novel light sources such as ultra-short and ultra-intense free electron lasers （FEL）， damage resistance of extreme ultraviolet （EUV） and X-ray thin-film mirrors has attracted wide attention. This paper introduces a nanosecond EUV damage instrument manufactured by the Institute of Precision Optical Engineering （IPOE）. EUV damage tests were conducted on boron carbide （B

C） reflective mirrors， gold （Au） and ruthenium （Ru） metal monolayer mirrors， B

C/Ru bilayer mirrors commonly used in EUV and X-ray free electron lasers， and molybdenum-silicon （Mo/Si） multilayer mirrors used in EUV lithography. Damage resistances for thin-film mirrors with different optical materials and structures were determined. Combined with theoretical simulations， damage mechanisms such as thermal melting， thermal stress， and interlayer diffusion-reaction were detected.

关键词

Keywords

references

ULLRICH J ， RUDENKO A ， MOSHAMMER R . Free-electron lasers： new avenues in molecular physics and photochemistry ［J］. Annual Review of Physical Chemistry ， 2012 ， 63 ： 635 - 660 . doi: 10.1146/annurev-physchem-032511-143720 http://dx.doi.org/10.1146/annurev-physchem-032511-143720

赵振堂，王东，殷立新，等 . 上海软X射线自由电子激光装置［J］. 中国激光， 2019 ， 46 （ 1 ）： 33 - 42 . doi: 10.3788/cjl201946.0100004 http://dx.doi.org/10.3788/cjl201946.0100004

ZHAO ZH T ， WANG D ， YIN L X ， et al . Shanghai soft X-ray free-electron laser facility ［J］. Chinese Journal of Lasers ， 2019 ， 46 （ 1 ）： 33 - 42 . （in Chinese） . doi: 10.3788/cjl201946.0100004 http://dx.doi.org/10.3788/cjl201946.0100004

BOSTEDT C ， BOUTET S ， FRITZ D M ， et al . Linac Coherent Light Source： the first five years ［J］. Reviews of Modern Physics ， 2016 ， 88 ： 015007 . doi: 10.1103/revmodphys.88.015007 http://dx.doi.org/10.1103/revmodphys.88.015007

HUANG N S ， DENG H X ， LIU B ， et al . Features and futures of X-ray free-electron lasers ［J］. The Innovation ， 2021 ， 2 （ 2 ）： 100097 . doi: 10.1016/j.xinn.2021.100097 http://dx.doi.org/10.1016/j.xinn.2021.100097

CHAPMAN H N ， FROMME P ， BARTY A ， et al . Femtosecond X-ray protein nanocrystallography ［J］. Nature ， 2011 ， 470 （ 7332 ）： 73 - 77 .

泮丙营，叶茂，封东来 . X射线自由电子激光在物理学中的应用［J］. 物理， 2018 ， 47 （ 7 ）： 418 - 425 .

PAN B Y ， YE M ， FENG D L . The application of X-ray free electron lasers in physics ［J］. Physics ， 2018 ， 47 （ 7 ）： 418 - 425 . （in Chinese）

张文凯，孔庆宇，翁祖谦 . X射线自由电子激光在化学与能源材料科学中的应用［J］. 物理， 2018 ， 47 （ 8 ）： 504 - 514 . doi: 10.7693/wl20180803 http://dx.doi.org/10.7693/wl20180803

ZHANG W K ， KONG Q Y ， WENG Z Q . Applications of femtosecond X-ray techniques in chemistry and energy materials science ［J］. Physics ， 2018 ， 47 （ 8 ）： 504 - 514 . （in Chinese） . doi: 10.7693/wl20180803 http://dx.doi.org/10.7693/wl20180803

HAU-RIEGE S P ， LONDON R A ， BIONTA R M ， et al . Damage threshold of inorganic solids under free-electron-laser irradiation at 32.5nm wavelength ［J］. Applied Physics Letters ， 2007 ， 90 （ 17 ）： 173128 . doi: 10.1063/1.2734366 http://dx.doi.org/10.1063/1.2734366

CHALUPSKÝ J ， HÁJKOVÁ V ， ALTAPOVA V ， et al . Damage of amorphous carbon induced by soft X-ray femtosecond pulses above and below the critical angle ［J］. Applied Physics Letters ， 2009 ， 95 （ 3 ）： 031111 . doi: 10.1063/1.3184785 http://dx.doi.org/10.1063/1.3184785

GAUDIN J ， PEYRUSSE O ， CHALUPSKÝ J ， et al . Amorphous to crystalline phase transition in carbon induced by intense femtosecond X-ray free-electron laser pulses ［J］. Physical Review B ， 2012 ， 86 （ 2 ）： 024103 . doi: 10.1103/physrevb.86.024103 http://dx.doi.org/10.1103/physrevb.86.024103

HAU-RIEGE S P ， LONDON R A ， BIONTA R M ， et al . Wavelength dependence of the damage threshold of inorganic materials under extreme-ultraviolet free-electron-laser irradiation ［J］. Applied Physics Letters ， 2009 ， 95 （ 11 ）： 111104 . doi: 10.1063/1.3216845 http://dx.doi.org/10.1063/1.3216845

AQUILA A ， SOBIERAJSKI R ， OZKAN C ， et al . Fluence thresholds for grazing incidence hard X-ray mirrors ［J］. Applied Physics Letters ， 2015 ， 106 （ 24 ）： 241905 . 46. doi: 10.1063/1.4922380 http://dx.doi.org/10.1063/1.4922380

HAU-RIEGE S P ， LONDON R A ， GRAF A ， et al . Interaction of short X-ray pulses with low-Z X-ray optics materials at the LCLS free-electron laser ［J］. Optics Express ， 2010 ， 18 （ 23 ）： 23933 - 23938 . doi: 10.1364/oe.18.023933 http://dx.doi.org/10.1364/oe.18.023933

STOJANOVIC N ， VON DER LINDE D ， SOKOLOWSKI-TINTEN K ， et al . Ablation of solids using a femtosecond extreme ultraviolet free electron laser ［J］. Applied Physics Letters ， 2006 ， 89 （ 24 ）： 241909 . doi: 10.1063/1.2405398 http://dx.doi.org/10.1063/1.2405398

MAKHOTKIN I A ， MILOV I ， CHALUPSKÝ J ， et al . Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold ［J］. JOSA B ， 2018 ， 35 （ 11 ）： 2799 - 2805 . doi: 10.1364/josab.35.002799 http://dx.doi.org/10.1364/josab.35.002799

KOYAMA T ， YUMOTO H ， SENBA Y ， et al . Damage study of optical substrates using 1-μm-focusing beam of hard X-ray free-electron laser ［J］. Journal of Physics： Conference Series ， 2013 ， 463 ： 012043 . doi: 10.1088/1742-6596/463/1/012043 http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/463/1/012043

SVETINA C ， MAHNE N ， RAIMONDI L ， et al . MagneDyn： the beamline for magneto dynamics studies at FERMI ［J］. Journal of Synchrotron Radiation ， 2016 ， 23 （ 1 ）： 98 - 105 . doi: 10.1107/s1600577515022080 http://dx.doi.org/10.1107/s1600577515022080

KOYAMA T ， YUMOTO H ， TONO K ， et al . Damage threshold investigation using grazing incidence irradiation by hard X-ray free electron laser ［C］. SPIE Optical Engineering+Applications. Proc SPIE 8848 ， Advances in X-Ray/EUV Optics and Components VIII， San Diego， California， USA . 2013 ， 8848 ： 186 - 192 . doi: 10.1117/12.2025377 http://dx.doi.org/10.1117/12.2025377

MILOV I ， MAKHOTKIN I A ， SOBIERAJSKI R ， et al . Mechanism of single-shot damage of Ru thin films irradiated by femtosecond extreme UV free-electron laser ［J］. Optics Express ， 2018 ， 26 （ 15 ）： 19665 - 19685 . doi: 10.1364/oe.26.019665 http://dx.doi.org/10.1364/oe.26.019665

FOLLATH R ， KOYAMA T ， LIPP V ， et al . X-ray induced damage of B 4 C-coated bilayer materials under various irradiation conditions ［J］. Scientific Reports ， 2019 ， 9 ： 2029 . doi: 10.1038/s41598-019-38556-0 http://dx.doi.org/10.1038/s41598-019-38556-0

MILOV I ， ZHAKHOVSKY V ， ILNITSKY D ， et al . Two-level ablation and damage morphology of Ru films under femtosecond extreme UV irradiation ［J］. Applied Surface Science ， 2020 ， 528 ： 146952 . doi: 10.1016/j.apsusc.2020.146952 http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.146952

FAENOV A ， PIKUZ T ， ISHINO M ， et al . Soft X-ray laser ablation of metals and dielectrics ［C］. SPIE Optics+Optoelectronics. Proc SPIE 10243， x-Ray Lasers and Coherent x-Ray Sources： Development and Applications， Prague， Czech Republic . 2017 ， 10243 ： 98 - 107 . doi: 10.1117/12.2264966 http://dx.doi.org/10.1117/12.2264966

ISHINO M ， INOGAMOV N A ， TAMOTSU S ， et al . Study of damage structure formation on aluminum film targets by picosecond soft X-ray laser ablation around threshold region ［J］. Applied Physics A ， 2018 ， 124 （ 9 ）： 649 . doi: 10.1007/s00339-018-2072-9 http://dx.doi.org/10.1007/s00339-018-2072-9

MIKAMI K ， ISHINO M ， DINH T H ， et al . Laser-induced damage thresholds and mechanism of silica glass induced by ultra-short soft X-ray laser pulse irradiation ［J］. Optics Letters ， 2020 ， 45 （ 8 ）： 2435 - 2438 . doi: 10.1364/ol.389288 http://dx.doi.org/10.1364/ol.389288

BARKUSKY F ， PETH C ， MANN K ， et al . Formation and direct writing of color centers in LiF using a laser-induced extreme ultraviolet plasma in combination with a Schwarzschild objective ［J］. Review of Scientific Instruments ， 2005 ， 76 （ 10 ）： 105102 . doi: 10.1063/1.2072147 http://dx.doi.org/10.1063/1.2072147

BARKUSKY F ， BAYER A ， DÖRING S ， et al . Damage threshold measurements on EUV optics using focused radiation from a table-top laser produced plasma source ［J］. Optics Express ， 2010 ， 18 （ 5 ）： 4346 - 4355 . doi: 10.1364/oe.18.004346 http://dx.doi.org/10.1364/oe.18.004346

ZHANG Z ， LI W B ， HUANG Q S ， et al . A table-top EUV focusing optical system with high energy density using a modified Schwarzschild objective and a laser-plasma light source ［J］. The Review of Scientific Instruments ， 2018 ， 89 （ 10 ）： 103109 . doi: 10.1063/1.5044752 http://dx.doi.org/10.1063/1.5044752

LI W B ， ZHANG Z ， PAN L Y ， et al . Table-top focused EUV optical system with high energy density and its application on EUV damage tests ［C］. SPIE Optics+Optoelectronics. Proc SPIE 11035， Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-Ray Radiation VII， Prague， Czech Republic . 2019 ， 11035 ： 1103505 . doi: 10.1117/12.2520143 http://dx.doi.org/10.1117/12.2520143

PAN L Y ， ZHANG Z ， LI W B ， et al . Multiple pulses damage test on Mo/Si multilayer using table-top focused EUV optical system built at IPOE ［C］. OSA High-brightness Sources and Light-driven Interactions Congress 2020 （EUVXRAY， HILAS， MICS）. Washington D.C. ： OSA ， 2020 ： ETh1A. 4 . doi: 10.1364/euvxray.2020.eth1a.4 http://dx.doi.org/10.1364/euvxray.2020.eth1a.4

LI W B ， PAN L Y ， WANG C L ， et al . Multi-shot damage on Mo/Si multilayer induced by nanosecond EUV radiation ［J］. AIP Advances ， 2021 ， 11 （ 1 ）： 015201 . doi: 10.1063/5.0035490 http://dx.doi.org/10.1063/5.0035490

LI W B ， WANG C L ， PAN L Y ， et al . Damage study on B 4 C films using a table-top nanosecond EUV damage instrument ［C］. SPIE Optics+Optoelectronics. Proc SPIE 11776， EUV and x-Ray Optics， Sources， and Instrumentation ， 2021 ， 11776 ： 109 - 116 . doi: 10.1117/12.2590040 http://dx.doi.org/10.1117/12.2590040

PAN L Y ， LI S H ， CAO J Y ， et al . Ultrafast time-resolved pump-probe investigation of nanosecond extreme ultraviolet-light-induced damage dynamics on B 4 C/Ru nano-bilayer film ［J］. Nano Letters ， 2022 ， 22 （ 13 ）： 5260 - 5268 . doi: 10.1021/acs.nanolett.2c01171 http://dx.doi.org/10.1021/acs.nanolett.2c01171

BARKUSKY F ， BAYER A ， FLÖTER B ， et al . Damage and degradation of optics and sensors under intense EUV radiation from a table-top laser produced plasma source ［C］. Laser Damage Symposium XLI ： Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers. Proc SPIE 7504 ， Laser-Induced Damage in Optical Materials： 2009， Boulder ， Colorado ， USA . 2009， 7504 ： 521 - 530 .

CHALUPSKÝ J ， JUHA L ， KUBA J ， et al . Characteristics of focused soft X-ray free-electron laser beam determined by ablation of organic molecular solids ［J］. Optics Express ， 2007 ， 15 （ 10 ）： 6036 - 6043 . doi: 10.1364/oe.15.006036 http://dx.doi.org/10.1364/oe.15.006036

CHALUPSKÝ J ， BURIAN T ， HÁJKOVÁ V ， et al . Fluence scan： an unexplored property of a laser beam ［J］. Optics Express ， 2013 ， 21 （ 22 ）： 26363 - 26375 . doi: 10.1364/oe.21.026363 http://dx.doi.org/10.1364/oe.21.026363

WU J L ， QI R Z ， HUANG Q S ， et al . Stress， roughness and reflectivity properties of sputter-deposited B 4 C coatings for X-ray mirrors ［J］. Chinese Physics Letters ， 2019 ， 36 （ 12 ）： 21 - 25 . doi: 10.1088/0256-307x/36/12/120701 http://dx.doi.org/10.1088/0256-307x/36/12/120701

付恩刚，庄大明，张弓，等 . 工作气压对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响［J］. 功能材料， 2003 ， 34 （ 5 ）： 543 - 545 . doi: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.023 http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.023

FU E G ， ZHUANG D M ， ZHANG G ， et al . Operation gas （argon） pressure dependence of the performances of ZAO thin films deposited by magnetron sputtering ［J］. Journal of Functional Materials ， 2003 ， 34 （ 5 ）： 543 - 545 . （in Chinese） . doi: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.023 http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1001-9731.2003.05.023

史新伟，周强，马群超，等 . 压强对直流磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响［J］. 郑州大学学报（理学版）， 2018 ， 50 （ 4 ）： 58 - 63 . doi: 10.13705/j.issn.1671-6841.2018060 http://dx.doi.org/10.13705/j.issn.1671-6841.2018060

SHI X W ， ZHOU Q ， MA Q CH ， et al . Impact of pressure on the optical properties of TiN film prepared by DC magnetron sputtering ［J］. Journal of Zhengzhou University （Natural Science Edition）， 2018 ， 50 （ 4 ）： 58 - 63 . （in Chinese） . doi: 10.13705/j.issn.1671-6841.2018060 http://dx.doi.org/10.13705/j.issn.1671-6841.2018060

冯秦旭，齐润泽，李文斌，等 . 涂硼中子探测器用B 4 C薄膜的应力和粘附力研究［J］. 红外与激光工程， 2019 （ S2 ）： 74 - 80 .

FENG Q X ， QI R Z ， LI W B ， et al . Stress and adhesion of B 4 C films for boron-coated neutron detectors ［J］. Infrared and Laser Engineering ， 2019 （ S2 ）： 74 - 80 . （in Chinese）

LEE K M ， HAN H J ， CHOI S ， et al . Effects of metal buffer layers on the hot filament chemical vapor deposition of nanostructured carbon films ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B： Microelectronics and Nanometer Structures ， 2003 ， 21 （ 1 ）： 623 . doi: 10.1116/1.1524136 http://dx.doi.org/10.1116/1.1524136

SWAB J J ， MEREDITH C S ， CASEM D T ， et al . Static and dynamic compression strength of hot-pressed boron carbide using a dumbbell-shaped specimen ［J］. Journal of Materials Science ， 2017 ， 52 （ 17 ）： 10073 - 10084 . doi: 10.1007/s10853-017-1210-7 http://dx.doi.org/10.1007/s10853-017-1210-7

KOYAMA T ， YUMOTO H ， MIURA T ， et al . Damage threshold of coating materials on X-ray mirror for X-ray free electron laser ［J］. Review of Scientific Instruments ， 2016 ， 87 （ 5 ）： 051801 . doi: 10.1063/1.4950723 http://dx.doi.org/10.1063/1.4950723

TAMURA K ， OGASAKA Y ， NAITOU M ， et al . Measurements of reflectivity of X-ray mirror for Suzaku satellite ［C］. SPIE Astronomical Telescopes+Instrumentation. Proc SPIE 6266， Space Telescopes and Instrumentation II ： Ultraviolet to Gamma Ray， Orlando， Florida， USA . 2006 ， 6266 ： 991 - 998 . doi: 10.1117/12.671474 http://dx.doi.org/10.1117/12.671474

GÜDDE J ， HOHLFELD J ， MÜLLER J G ， et al . Damage threshold dependence on electron-phonon coupling in Au and Ni films ［J］. Applied Surface Science ， 1998 ， 127/ 128 / 129 ： 40 - 45 .

SALAZAR A N . On thermal diffusivity ［J］. European Journal of Physics ， 2003 ， 24 （ 4 ）： 351 - 358 . doi: 10.1088/0143-0807/24/4/353 http://dx.doi.org/10.1088/0143-0807/24/4/353

FLECHSIG U ， SPIELMANN S ， THOMINET V ， et al . Mirror systems for SwissFEL， from concept to commissioning with x-rays ［C］. AIP Conference Proceedings. Taipei ， China. Author（s）， 2019 ， 2054 ： 060001 . doi: 10.1063/1.5084632 http://dx.doi.org/10.1063/1.5084632

FOLLATH R ， FLECHSIG U ， MILNE C ， et al . Optical design of the ARAMIS-beamlines at SwissFEL ［J］. AIP Conference Proceedings ， 2016 ， 1741 （ 1 ）： 020009 .

MILOV I ， LIPP V ， ILNITSKY D ， et al . Similarity in ruthenium damage induced by photons with different energies： from visible light to hard X-rays ［J］. Applied Surface Science ， 2020 ， 501 ： 143973 . doi: 10.1016/j.apsusc.2019.143973 http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143973

BAJT S ， ALAMEDA J B ， BARBEE T W J ， et al . Improved reflectance and stability of Mo/Si multilayers ［J］. Optical engineering ， 2002 ， 41 （ 8 ）： 1797 - 1804 . doi: 10.1117/1.1489426 http://dx.doi.org/10.1117/1.1489426

KHORSAND A R ， SOBIERAJSKI R ， LOUIS E ， et al . Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure ［J］. Optics Express ， 2010 ， 18 （ 2 ）： 700 - 712 . doi: 10.1364/oe.18.000700 http://dx.doi.org/10.1364/oe.18.000700

BAUDACH S ， BONSE J ， KRÜGER J ， et al . Ultrashort pulse laser ablation of polycarbonate and polymethylmethacrylate ［J］. Applied Surface Science ， 2000 ， 154/155 ： 555 - 560 . doi: 10.1016/s0169-4332(99)00474-2 http://dx.doi.org/10.1016/s0169-4332(99)00474-2

KIM S H ， SOHN I B ， JEONG S . Ablation characteristics of aluminum oxide and nitride ceramics during femtosecond laser micromachining ［J］. Applied Surface Science ， 2009 ， 255 （ 24 ）： 9717 - 9720 . doi: 10.1016/j.apsusc.2009.04.058 http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2009.04.058

JEE Y ， BECKER M F ， WALSER R M . Damage Morphologies and Cumulative Behavior of Laser Damage on Single Crystal Metal Surfaces ［M］. Laser Induced Damage in Optical Materials： 1986.100 Barr Harbor Drive ， PO Box C700， West Conshohocken， PA 19428- 2959 ： ASTM International， 2009 ： 575-575 - 19 .

NEDELCU I ， VAN DE KRUIJS R W E ， YAKSHIN A E ， et al . Thermally enhanced interdiffusion in Mo∕Si multilayers ［J］. Journal of Applied Physics ， 2008 ， 103 （ 8 ）： 083549 . doi: 10.1063/1.2907964 http://dx.doi.org/10.1063/1.2907964

TAKENAKA H ， KAWAMURA T ， ISHII Y ， et al . Heat resistance of Mo/Si， MoSi 2 /Si， and Mo 5 Si3/Si multilayer soft X-ray mirrors ［J］. Journal of Applied Physics ， 1995 ， 78 （ 9 ）： 5227 - 5230 . doi: 10.1063/1.359698 http://dx.doi.org/10.1063/1.359698

Views

707

下载量

CSCD

Alert me when the article has been cited

提交

Tools

Publicity Resources

Research progress of normal-incidence optical system at extreme ultraviolet （EUV） wavelength

Ultra-precision machining and testing of reflector mirrors for extreme ultraviolet and X-ray

Design and fabrication of EUV broadband multilayer mirrors with discrete thicknesses

Broadband aperiodic Mo/Si multilayer polarization elements for EUV region

Experimental study of the resolution of an optoelectronic imaging system at 17.1 nm based on MCP detector

Related Author

WANG Zhanshan

ZHANG Zhong

LI Wenbin

CHEN Shenghao

HUANG Qiushi

YI Shengzhen

ZHANG Zhe

SHEN Zhenxiang

Related Institution

Institute of Precision Optical Engineering， MOE Key Laboratory of Advanced Micro-Structured Materials， Shanghai Frontiers Science Center of Digital Optics， Shanghai Professional Technical Service Platform for Full-Spectrum and High-Performance Optical Thin Film Devices and Applications， School of Physics Science and Engineering， Tongji University

School of Science, Changchun University of Science and Technology

Advanced Manufacturing Technology for Optical Systems Laboratory, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences

National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China

Institute of Precision Optical Engineering, Physics Department, Tongji University

Address：No.3888 Dong Nanhu Road, Changchun, Jilin, China Postal code：130033
Tel：0431-86176855 Email：gxjmgc@ciomp.ac.cn
Technical support is provided by Beijing Founder electronics co., LTD 吉ICP备11002662号-17 京公网安备11010802024621
It is recommended to read the content of this site in Chrome&IE9+. Please switch to extreme mode in browser 360.
Cookies We use cookies to help provide and enhance our service and tailor content. By continuing, you agree to the use of cookies.

⁰