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网络出版日期:1976-02-15,
纸质出版日期:1976-02-15
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苏禄, 卢寿枬. 光学膜层材料及其应用[J]. 光学精密工程, 1976,(1): 50-58
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(1): 50-58
苏禄, 卢寿枬. 光学膜层材料及其应用[J]. 光学精密工程, 1976,(1): 50-58 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(1): 50-58 DOI:
本文叙述的是制备干涉膜的电介质膜层
高反射金属膜层和中性密度滤光片和太阳眼镜的半透明膜层的材料的研究.它证明:改进真空沉淀技术和处理
比如用电子轰击蒸发
在最高真空条件下和最高速率的膜层沉淀
氧气又应蒸发和膜层沉淀后的紫外辐射
使膜层材料在光学应用上具有很大数量和质量的提高和改进.讨论了产生高透过率电介质膜层和高反射率金属膜层的某些重要因素
并叙述了适应于控制卫星和空间飞行器温度的膜层.
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