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网络出版日期:1976-06-15,
纸质出版日期:1976-06-15
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王哲. 溅射光学薄膜的评价[J]. 光学精密工程, 1976,(3): 67-68
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(3): 67-68
王哲. 溅射光学薄膜的评价[J]. 光学精密工程, 1976,(3): 67-68 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(3): 67-68 DOI:
本计划的目的必须评价作为光学薄膜沉积程序的溅射方法.对这种程序作实验评价来说
选择五种基本材料作了评价:SiO、TiO
2
、CeO
、MgF
和 ZrO
.选 SiO 作靶材料
以便评价用反应溅射方法制备具有从1.9(SiO)到1.45(SiO
)折射率的薄膜的重复性.其他材料被选作或高或低的折射率.
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