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网络出版日期:1976-02-15,
纸质出版日期:1976-02-15
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赵遂武, 卢昌义. 真空镀膜的压电石英任意厚度控制及工艺[J]. 光学精密工程, 1976,(1): 1-9
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(1): 1-9
赵遂武, 卢昌义. 真空镀膜的压电石英任意厚度控制及工艺[J]. 光学精密工程, 1976,(1): 1-9 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(1): 1-9 DOI:
引言在真空镀膜中采用压电石英控制薄膜厚度
可以达到精度高、重复性好
还能实现任意膜层厚度的控制.曾利用此方法制备了相位滤频片
紫外窄带干涉滤光片
1.06μ消反射、高反射和具有特定反射率等膜系.还曾应用于有机化学材料(乙基含氢硅油)的薄膜厚度控制.
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