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网络出版日期:1976-04-15,
纸质出版日期:1976-04-15
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周毓平, 张联维, 卢寿枬. 第二次国际激光—光电子学讨论会简介[J]. 光学精密工程, 1976,(2): 60-62
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(2): 60-62
周毓平, 张联维, 卢寿枬. 第二次国际激光—光电子学讨论会简介[J]. 光学精密工程, 1976,(2): 60-62 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1976,(2): 60-62 DOI:
一九七五年六月廿四日至廿七日在西德幕尼黑召开了第二次国际激光一光电子学讨论会
同时举办了专业展览会
有来自十二个国家的167个公司参加.会议出席人数有800多人
提出报告60篇.会议分作12个专题进行讨论
主要内容是目前激光和光电子学方面已有的器件和应用范围.
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