光学薄膜新材料

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光学薄膜新材料

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 光学薄膜新材料
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- 光学精密工程 1977年0卷第4期页码：36-38
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- 网络出版日期：1977-08-15，
  
  纸质出版日期：1977-08-15
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苏禄. 光学薄膜新材料[J]. 光学精密工程, 1977,(4): 36-38

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1977,(4): 36-38
苏禄. 光学薄膜新材料[J]. 光学精密工程, 1977,(4): 36-38 DOI：

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1977,(4): 36-38 DOI：

摘要

本文叙述光学薄膜新材料。研制了用于电子束蒸发技术上的氧化锆

氧化钛

氧化铈和氧化铪(成为以各种大小的黑片或锥体形式).这些材料将氧耗尽并在蒸发期间均匀溶化得到重复蒸发特性。叙述了用来制备折射率膜层的含有 ZrO

2

和 ZrTiO

4

组成的新混合物。也叙述了物质蒸发条件和混合物薄膜特性。折射率在500nm 是2.15。透射比范围是0.4-7微米。膜层光学均匀性很好。也叙述了在三层抗反射膜层中这种混合物膜层的应用。

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