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网络出版日期:1979-08-15,
纸质出版日期:1979-08-15
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韩心得, 刘杏双, 顾去吾. 全息照相记录介质——评论[J]. 光学精密工程, 1979,(4): 32-41
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1979,(4): 32-41
韩心得, 刘杏双, 顾去吾. 全息照相记录介质——评论[J]. 光学精密工程, 1979,(4): 32-41 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1979,(4): 32-41 DOI:
早期全息图是记录在照相干板上的
就是现在这种干板仍然是最常用的全息照相记录介质。但是
全息过程的本质
加上高功率相干光源的发展
则要求应用与照相干板不同的介质。结果
在敏化的重铬酸盐明胶
光致抗蚀剂
电光晶体
光致变色薄膜和光致变色玻璃
热塑料
光聚合物
无定形半导体
染料
MnBi
微泡和重氮基薄膜上也都与更为标准的卤化银乳剂一样记录了全息图。在这篇评论里
考察了得到普遍利用的全息照相记录介质以及它们的若千应用。也研究了一些试验性介质。我们不企图把介质分成等级
因为这篇评论的目地只是使读者为他的特殊应用而选择全息记录介质时
能够熟悉多种选择
认为这种做法是合适的
因为目前能使用的大多数介质都能构成良好的全息图。
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