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网络出版日期:1980-02-15,
纸质出版日期:1980-02-15
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梁浩明, 庄夔, 张庆英, 杨厚民. 平面衍射光栅刻划机[J]. 光学精密工程, 1980,(1): 66-73
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1980,(1): 66-73
梁浩明, 庄夔, 张庆英, 杨厚民. 平面衍射光栅刻划机[J]. 光学精密工程, 1980,(1): 66-73 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1980,(1): 66-73 DOI:
目前
绝大部分使用的平面衍射光栅
是在光栅刻划机刻出的光栅上复制出来的复制光栅.因此
由光栅刻划机刻出的光栅叫原刻光栅或母光栅.光栅刻划机是制造光栅的最主要设备.由于衍射光栅有精度要求高(一般在0.01微米数量级)
刻划周期长(一般约五昼夜)的特点
光栅刻划机以及机器所处的条件必需与之相适应.我们已设计制造成功四台平面衍射光栅刻划机
机器所需恒温、隔振条件也已解决
现正着手设计第五台光栅刻划机
下面谈几点体会.
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