浏览全部资源
扫码关注微信
网络出版日期:1983-08-15,
纸质出版日期:1983-08-15
移动端阅览
庄夔, 刘桂琴. 凹面衍射光栅刻划机[J]. 光学精密工程, 1983,(4): 29-34
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(4): 29-34
庄夔, 刘桂琴. 凹面衍射光栅刻划机[J]. 光学精密工程, 1983,(4): 29-34 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(4): 29-34 DOI:
长春光机所于1979年研制了一台凹面光栅刻划机
可刻划光栅面积为70×90毫米
2
每毫米可刻划600、1200、2400条线的凹面光栅。1980年末刻出半径为0.35米的Ⅰ型试用光栅
1981年刻出半径为1米的Ⅰ型试用光栅。
0
浏览量
321
下载量
CSCD
关联资源
相关文章
相关作者
相关机构