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网络出版日期:1983-12-15,
纸质出版日期:1983-12-15
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林开华, 程贤德. 二氧化硅为基础的光学三防保护膜[J]. 光学精密工程, 1983,(6): 45-52
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(6): 45-52
林开华, 程贤德. 二氧化硅为基础的光学三防保护膜[J]. 光学精密工程, 1983,(6): 45-52 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(6): 45-52 DOI:
本文采用了价格较便宜的石英石作为原材料
用电子束蒸发淀积法
研制成功了以二氧化硅为基础的光学三防保护膜。该薄膜能耐湿热25天
耐盐雾14天。同时采用四乙氧基硅烷为原材料
用旋转法也研制了以二氧化硅为基础的光学三防膜。本文还讨论了SiO
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薄膜虽在热基底上凝聚
其结构基本上是无晶形。但通过湿热、盐雾等环境试验以及加镀FS-46膜后的效应
可以推断出SiO
薄膜还是有针孔的显微结构
该结果与H·K·Pulker等人采用水蒸气吸附法的结论相一致。
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