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网络出版日期:1985-04-15,
纸质出版日期:1985-04-15
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王哲, 何静富. RF平面磁控溅射技术制备ZnO膜[J]. 光学精密工程, 1985,(2): 39-42
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1985,(2): 39-42
王哲, 何静富. RF平面磁控溅射技术制备ZnO膜[J]. 光学精密工程, 1985,(2): 39-42 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1985,(2): 39-42 DOI:
本文主要叙述应用RF平面磁控溅射技术进行ZnO膜的研制
并扼要地介绍RF平面磁控溅射技术的原理。同时指出制备工艺条件对ZnO膜性能的影响和所取得的初步结果。
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