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网络出版日期:1982-04-15,
纸质出版日期:1982-04-15
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蒋廷楠, 蒋朝江. 在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 17-21
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 17-21
蒋廷楠, 蒋朝江. 在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 17-21 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 17-21 DOI:
为使不耐潮湿的光学元件
特别是化学稳定性差的一些高折射率光学玻璃
易潮解的光学晶体
多层介质光学薄膜等能在宇宙技术或海洋作业等恶劣环境下使用
近年来国内外很重视有关光学保护膜的研究
采用高频溅射技术制备聚全氟乙丙烯保护膜。
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