在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置

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在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置
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- 光学精密工程 1982年0卷第2期页码：17-21
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  中图分类号：
- 网络出版日期：1982-04-15，
  
  纸质出版日期：1982-04-15
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王哲. 高频溅射光学保护膜的研究[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 27-30

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 27-30
王哲. 高频溅射光学保护膜的研究[J]. 光学精密工程, 1982,(2): 27-30 DOI：

. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1982,(2): 27-30 DOI：

摘要

为了得到高精度、高质量的光栅盘、度盘、光栅尺等

目前国内外已有一些部门开始把集成电路工艺中使用的光刻胶应用到光学刻划方面来。光刻胶具有很高的分辨率和很强的抗蚀能力

因此用它能刻出很细的线条并能得到很好的边缘。

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