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网络出版日期:1983-04-15,
纸质出版日期:1983-04-15
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邹自强. 0.2秒圆刻机的基本原理[J]. 光学精密工程, 1983,(2): 1-11
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(2): 1-11
邹自强. 0.2秒圆刻机的基本原理[J]. 光学精密工程, 1983,(2): 1-11 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1983,(2): 1-11 DOI:
本文根据作者所搜集到的资料综述了圆刻机的发展历史
在漫长的发展过程中大体经历了抄录刻划、机械刻划和光电刻划三个阶段
中国古代曾对刻划技术的发展作出过重要贡献。列表说明了世界上圆刻机生产及研制现状。本文介绍了长春光机所近十几年来研究成功的一种光电圆刻方法
它的特点是:利用传统的机械方法进行分度粗定位
而后再用光电伺服控制对误差进行微量校正。
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