激光等离子体X射线源及应用

陈时胜

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激光等离子体X射线源及应用

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 激光等离子体X射线源及应用
- Laser Plasma X-ray Source and Its Applications
- 光学精密工程 1991年0卷第1期页码：54-63
- 作者机构：
  
  中国科学院上海光机所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 网络出版日期：1991-02-15，
  
  纸质出版日期：1991-02-15
- 稿件说明：
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陈时胜. 激光等离子体X射线源及应用[J]. 光学精密工程, 1991,(1): 54-63

Chen Shisheng. Laser Plasma X-ray Source and Its Applications[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1991,(1): 54-63
陈时胜. 激光等离子体X射线源及应用[J]. 光学精密工程, 1991,(1): 54-63 DOI：

Chen Shisheng. Laser Plasma X-ray Source and Its Applications[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1991,(1): 54-63 DOI：

摘要

高功率激光经聚焦后

靶面吸收束能迅速变成等离子体并转变为高温热辐射X射线源。激光等离子体X光源在科学与技术领域有广泛应用

包括X光谱学、X光显微术、X光刻、辐射计量、材料及仪器X光射性检测、高温高密度天体物理、X激光及激光核聚变、EXAFS等。本文讨论激光等离子体形成的物理过程及影响X光辐射的诸因素

重点介绍在X光刻及X光显微镜方面的应用。

Abstract

The principles and current research results of laser produced high temperature plasma are shortly reviewed. X-ray radiation form such plasma and the dependence of X-ray radiation on target materials and laser parameters (such as power pulse width

wayelength

etc.) are described. The applications of laser plasma as X-ray source in X-ray lithography

X-ray microscopy are discussed.

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