超薄铍膜漏率的测量

赵振武

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超薄铍膜漏率的测量

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 超薄铍膜漏率的测量
- Leak Coefficient Measurement for the Ultra-thin Beryllium Film
- 光学精密工程 1991年0卷第3期页码：44-47
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  中图分类号：
- 网络出版日期：1991-06-15，
  
  纸质出版日期：1991-06-15
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赵振武. 超薄铍膜漏率的测量[J]. 光学精密工程, 1991,(3): 44-47

Zhao Zhenwu. Leak Coefficient Measurement for the Ultra-thin Beryllium Film[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1991,(3): 44-47
赵振武. 超薄铍膜漏率的测量[J]. 光学精密工程, 1991,(3): 44-47 DOI：

Zhao Zhenwu. Leak Coefficient Measurement for the Ultra-thin Beryllium Film[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1991,(3): 44-47 DOI：

摘要

本实验采用质谱计比较法

并通过前置检漏提高检漏灵敏度的手段

在专门设计的实验装置土

对用于北京正负电子对撞机同步辐射X-射线光刻光束线上超薄铍膜（d=18μm）进行了漏率测量。计算表明漏率为10

-5

Pa·m

/s量级

与国外进口铍膜试验报告上所给出的漏率数据一致。

Abstract

This experiment employed mass-spectro-meter comparison method to measure the leak coefficient of ultra-thin beryllium film（d=18μm） of X-ray lithography beam line of Bejing Electron-Positron Colliding Device at a specially designed equipment. To enhance the sensitivity of leak detecting

preset leak detecting method was also introduced. The calculation results show that the leak efficiency is about 10

-5

Pa· m

/s. It is consistent with the leak efficiency data of the imported Berylliurn film given by the test sheet.

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