10.6微米高反射率绝对测量的研究

邵桂英; 曹银花

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10.6微米高反射率绝对测量的研究

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 10.6微米高反射率绝对测量的研究
- A Study of Absoulte Measurement of High-Reflectance at 10.6μm
- 光学精密工程 1992年0卷第6期页码：56-61
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- 网络出版日期：1992-12-15，
  
  纸质出版日期：1992-12-15
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邵桂英, 曹银花. 10.6微米高反射率绝对测量的研究[J]. 光学精密工程, 1992,(6): 56-61

Shao Guiying, Cao Yinhua. A Study of Absoulte Measurement of High-Reflectance at 10.6μm[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1992,(6): 56-61
邵桂英, 曹银花. 10.6微米高反射率绝对测量的研究[J]. 光学精密工程, 1992,(6): 56-61 DOI：

Shao Guiying, Cao Yinhua. A Study of Absoulte Measurement of High-Reflectance at 10.6μm[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1992,(6): 56-61 DOI：

摘要

介绍一种新的红外高反射率绝对测量方法.这是采用双光路和可转动180°的双球镜反射谐振腔光路

测量反射率高次方的光学方法.反射率测量准确度达到5×10

-4

重复精度好于2×10

-4

Abstract

This paper presents a new method of absoulte measurent for infrared high-reflectance.Double beam are used and reflecting cavity of two spherical mirrors are constructed and rotated by 180?.Measuring beam is reflected light times on the surface of sample.The accuracy of measu- rement reflectance is 5?10

-4

and the precision better than 2?10

-4

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