离心式涂胶膜厚均匀性的影响因素分析

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离心式涂胶膜厚均匀性的影响因素分析

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 离心式涂胶膜厚均匀性的影响因素分析
- Analysis of Effect on Uniformity of Photoresist Layer in Spin Coating
- 光学精密工程 1996年4卷第2期页码：94-97
- 作者机构：
  
  中国科学院长春光学精密机械研究所长春,130022
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1995-07-03，
  
  网络出版日期：1996-04-15，
  
  纸质出版日期：1996-04-15
- 稿件说明：
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付永启, 赵晶丽. 离心式涂胶膜厚均匀性的影响因素分析[J]. 光学精密工程, 1996,(2): 94-97

Fu Yongqi, Zhao Jingli. Analysis of Effect on Uniformity of Photoresist Layer in Spin Coating[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1996,(2): 94-97
付永启, 赵晶丽. 离心式涂胶膜厚均匀性的影响因素分析[J]. 光学精密工程, 1996,(2): 94-97 DOI：

Fu Yongqi, Zhao Jingli. Analysis of Effect on Uniformity of Photoresist Layer in Spin Coating[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1996,(2): 94-97 DOI：

从薄胶涂布和厚胶涂布两种情况出发

分别详细列举和分析了它们各自不同的影响因素及控制措施

并涂出了较均匀的胶层.

The different effect factors and controlling method is analysed and listed in this paperfrom the aspects of thin coating and thick coating

It has a certain reference meaning for actual lithographic technology.

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