您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究
论文 | 更新时间:2020-08-12
    • 微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究

    • Study on lon Beam Etching Fabrication for SiO2 Microlens Array

    • 光学精密工程   1997年5卷第5期 页码:63-68
    • 收稿日期:1997-03-24

      网络出版日期:1997-10-15

      纸质出版日期:1997-10-15

    移动端阅览

  • 张新宇, 易新建, 赵兴荣, 麦志洪, 何苗, 刘鲁勤. 微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究[J]. 光学精密工程, 1997,(5): 63-68 DOI:

    Zhang Xinyu, Yi Xinjian, Zhao Xingrong, Mai Zhihong, He Miao, Li luqin. Study on lon Beam Etching Fabrication for SiO<sub>2</sub> Microlens Array[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1997,(5): 63-68 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

961

下载量

2

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

宽束离子束刻蚀快速加工金属纳米间隙结构
用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制
用于强激光系统的光栅偏振器
宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺
基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅

相关作者

郑梦洁
段辉高
陈艺勤
舒志文
曾沛
黄爽爽
刘全
鲁金超

相关机构

季华实验室
湖南大学 机械与运载工程学院 国家高效磨削工程技术研究中心
苏州大学 光电科学与工程学院 & 苏州纳米科技协同创新中心
江苏省先进光学制造技术重点实验室 & 教育部现代光学技术重点实验室
苏州大学 物理与光电·能源学部 苏州纳米科技协同创新中心
0