化学腐蚀法制造硅微透镜列阵的实验研究

朱维安; 黄友恕; 钟先信; 秦邻

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化学腐蚀法制造硅微透镜列阵的实验研究

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 化学腐蚀法制造硅微透镜列阵的实验研究
- A Experimental Research on Silicon Micromirror Arrays Made by Chemical Etching
- 光学精密工程 1998年6卷第2期页码：64-70
- 作者机构：
  
  1. 重庆大学光机系重庆,400044
  2. 电子工业部24研究所重庆,400060
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1997-09-15，
  
  修回日期：1997-10-27，
  
  网络出版日期：1998-04-15，
  
  纸质出版日期：1998-04-15
- 稿件说明：
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朱维安, 黄友恕, 钟先信, 秦邻. 化学腐蚀法制造硅微透镜列阵的实验研究[J]. 光学精密工程, 1998,(2): 64-70

ZHU Wei-An, HUANG You-Shu, ZHONG Xian-Xin, QING Ling . A Experimental Research on Silicon Micromirror Arrays Made by Chemical Etching[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1998,(2): 64-70
朱维安, 黄友恕, 钟先信, 秦邻. 化学腐蚀法制造硅微透镜列阵的实验研究[J]. 光学精密工程, 1998,(2): 64-70 DOI：

ZHU Wei-An, HUANG You-Shu, ZHONG Xian-Xin, QING Ling . A Experimental Research on Silicon Micromirror Arrays Made by Chemical Etching[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1998,(2): 64-70 DOI：

摘要

采用KOH:H

O的湿法化学腐蚀Si{100}晶片获得了球面轮廓曲线十分好的微透镜

透镜直径可从几个微米到几个毫米

焦距和孔径之比f/D可以从2.5到10以上。文章给出了微透镜及列阵的实验测试结果和若干显微照片

对其设计与制造建立了半经验理论模型。最后

对球面的形成原理及异常焦斑形状作了讨论。

Abstract

Micromirrors with good spherical profiles can be made on the Si{100} surface by wet chemical etching in KOH:H

O solutions.The mirror diameters span the range from a few micrometers to several millimeters and the range of f/D's obtainable starts at about 2.5 and goes up to at least 10.Some experiment and microphotos on micromirrors array have given in the paper.A semiempirical model is developed to design the arrays.Finally some discussions on the spherical formation theory and the focal point images are given.

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