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准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用
论文 | 更新时间：2020-08-12

    • 准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用

    • The Application of Excimer Laser Deep Lithography in LIGA Process

    • 光学精密工程   1998年6卷第2期 页码：56-60

    • 收稿日期：1997-07-21，

      网络出版日期：1998-04-15，

      纸质出版日期：1998-04-15

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  • 沈蓓军, 王润文, 路敦武, 黄惠杰. 准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用[J]. 光学精密工程, 1998,(2): 56-60 DOI：

    SHEN Bei-Jun, WANG Run-Wen, LU Dun-Wu, HUANG Hui-Jie . The Application of Excimer Laser Deep Lithography in LIGA Process[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1998,(2): 56-60 DOI：

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相关作者

尚红波
黄玮
杨旺
李寒松
朱 荻
胡洋洋
卢振武
张红鑫

相关机构

中国科学院大学
中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所
南京航空航天大学 江苏省精密与微细制造技术重点实验室
吉林大学 数学学院,吉林 长春 130022
中国科学院 研究生院,北京 100039
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