软X射线投影光刻原理装置的设计

金春水; 王占山; 曹健林

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软X射线投影光刻原理装置的设计

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 软X射线投影光刻原理装置的设计
- Development of elementary arrangement for soft X-ray projection lithography
- 光学精密工程 2000年8卷第1期页码：66-70
- 作者机构：
  
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春,130021
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助项目,项目批准号:69625710()
- DOI：
  中图分类号： TN305.7
- 收稿日期：1999-08-19，
  
  修回日期：1999-10-27，
  
  网络出版日期：2000-02-15，
  
  纸质出版日期：2000-02-15
- 稿件说明：
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金春水, 王占山, 曹健林. 软X射线投影光刻原理装置的设计[J]. 光学精密工程, 2000,(1): 66-70

JIN Chun-shui, WANG Zhan-shan, CAO Jian-lin . Development of elementary arrangement for soft X-ray projection lithography[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2000,(1): 66-70
金春水, 王占山, 曹健林. 软X射线投影光刻原理装置的设计[J]. 光学精密工程, 2000,(1): 66-70 DOI：

JIN Chun-shui, WANG Zhan-shan, CAO Jian-lin . Development of elementary arrangement for soft X-ray projection lithography[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2000,(1): 66-70 DOI：

摘要

首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软X射线投影光刻技术的特性

其次介绍了软X射线投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成.0.1倍的Schwarzchild微缩投影物镜具有小于0.2μm的分辨率.

Abstract

The prototype for soft X-ray projection lithography at 13nm wavelength is introduced. It includes a laser plasma source

an ellipsoidal condenser

a transmission mask

the Schwarzschild objective

a wafer and the associated vacuum apparatus. The optical design is optimized to achieve smaller resolution than 0.2μm over a 0.1mm diameter image field of view.

关键词

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