LIGA技术基础研究

梁静秋; 姚劲松

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LIGA技术基础研究

论文 | 更新时间：2020-08-12

- LIGA技术基础研究
- The study of LIGA technology
- 光学精密工程 2000年8卷第1期页码：38-41
- 作者机构：
  
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春,中国,130033
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家攀登计划B();北京正负电子对撞机国家实验室();合肥国家同步辐射实验室资助()
- DOI：
  中图分类号： TN305.7
- 收稿日期：1999-08-25，
  
  修回日期：1999-09-05，
  
  网络出版日期：2000-02-15，
  
  纸质出版日期：2000-02-15
- 稿件说明：
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梁静秋, 姚劲松. LIGA技术基础研究[J]. 光学精密工程, 2000,(1): 38-41

LIANG Jing-qiu, YAO Jin-song . The study of LIGA technology[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2000,(1): 38-41
梁静秋, 姚劲松. LIGA技术基础研究[J]. 光学精密工程, 2000,(1): 38-41 DOI：

LIANG Jing-qiu, YAO Jin-song . The study of LIGA technology[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2000,(1): 38-41 DOI：

摘要

阐述了LIGA技术的组成及特点.对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了工艺原理分析.用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜.简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程

并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻

得到了深度为500μm

深宽比达8.3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构.给出掩膜和X射线光刻照片.同时

对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究.

Abstract

The composition and feature of LIGA technology was explicated. The principles of LIGA process on mask

X-ray lithography

electroform and model were analyzed. The X-ray lithography mask using polyamide as substrate and using Au as a absorber was fabricated by one step forming. The synchronous radiation X-ray lithography experiment using this kind of mask was made in Beijing Key Lab of the Synchronous Radiation. The PMMA linkage structure of micro electromagnetic motor with depth of 500μm and depth width radio of 8.3 was made. The SEM photo of X-ray lithography and mask was given. The electroform technique of Au and Ni metal thick film were studied

too.

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相关机构

中国科学院大学

南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室

中国科学院研究生院,北京 100039

吉林大学数学学院,吉林长春 130022

地址：长春市东南湖大路3888号邮编：130033
联系电话：0431-86176855 Email：gxjmgc@ciomp.ac.cn
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