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全息平面变间距光栅刻线弯曲程度分析
更新时间:2020-08-12
    • 全息平面变间距光栅刻线弯曲程度分析

    • Study on line-profiles of variable line-space plane gratings with holographic recording

    • 光学精密工程   2006年14卷第1期 页码:12-15
    • 中图分类号: O436.1;O438.1
    • 收稿日期:2005-07-20

      修回日期:2005-10-24

      网络出版日期:2006-02-20

      纸质出版日期:2006-02-20

    移动端阅览

  • 楼 俊, 徐向东, 刘 颖, 等. 全息平面变间距光栅刻线弯曲程度分析[J]. 光学精密工程, 2006,14(1):12-15. DOI:

    LOU Jun, XU Xiang-dong, LIU Ying, et al. Study on line-profiles of variable line-space plane gratings with holographic recording[J]. Optics and precision engineering, 2006, 14(1): 12-15. DOI:

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苏州大学 物理与光电·能源学部与苏州纳米科技协同创新中心 江苏省先进光学制造技术重点实验室 教育部现代光学技术重点实验室
中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130033
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