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磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响
论文 | 更新时间:2020-08-12
    • 磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响

    • Effect on material removal of magnetorheological jet polishing by several parameters

    • 光学精密工程   2006年14卷第6期 页码:1004-1008
    • 中图分类号: TH161
    • 收稿日期:2006-05-08

      修回日期:2006-09-15

      网络出版日期:2006-12-30

      纸质出版日期:2006-12-30

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  • 张学成, 戴一帆, 李圣怡, 等. 磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响[J]. 光学精密工程, 2006,14(6):1004-1008. DOI:

    ZHANG Xue-cheng, DAI Yi-fan, LI Sheng-yi, et al. Effect on material removal of magnetorheological jet polishing by several parameters[J]. Optics and precision engineering, 2006, 14(6): 1004-1008. DOI:

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