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利用图像处理技术评价硅片表面清洗率
论文 | 更新时间:2020-08-12
    • 利用图像处理技术评价硅片表面清洗率

    • Evaluation of efficiency for silicon wafer cleaning by image processing

    • 光学精密工程   2007年15卷第8期 页码:1263-1268
    • 中图分类号: TG665;TP391.4
    • 收稿日期:2007-02-06

      修回日期:2007-05-29

      网络出版日期:2007-08-30

      纸质出版日期:2007-08-30

    移动端阅览

  • 王续跃, 许卫星, 司马媛, 等. 利用图像处理技术评价硅片表面清洗率[J]. 光学精密工程, 2007,15(8):1263-1268. DOI:

    WANG Xu-yue, XU Wei-xing, SI Ma-yuan, et al. Evaluation of efficiency for silicon wafer cleaning by image processing[J]. Optics and precision engineering, 2007, 15(8): 1263-1268. DOI:

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相关作者

吴东江
许 媛
王续跃
康仁科
司马媛
胡礼中
程瑶
吴哲滔

相关机构

大连理工大学 精密与特种加工教育部重点实验室
大连理工大学 三束材料改性国家重点实验室
重庆理工大学 机械工程学院
江西理工大学 信息工程学院
多维智能感知与控制江西省重点实验室
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