超声波磁流变复合抛光中几种 工艺参数对材料去除率的影响

王慧军; 张飞虎; 赵 航; 栾殿荣; 陈亚春

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超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响
- Effect of several processing parameters on material removal ratio in ultrasonic-magnetorheological compound finishing
- 光学精密工程 2007年15卷第10期页码：1583-1588
- 作者机构：
  
  哈尔滨工业大学机电工程学院,黑龙江哈尔滨,150001
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： TQ171.684;TH161
- 收稿日期：2007-06-24，
  
  修回日期：2007-08-20，
  
  网络出版日期：2007-10-30，
  
  纸质出版日期：2007-10-30
- 稿件说明：
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王慧军,张飞虎,赵航,栾殿荣,陈亚春. 超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响[J]. 光学精密工程, 2007,15(10):1583-1588

WANG Hui-jun, ZHANG Fei-hu, ZHAO Hang, et al. Effect of several processing parameters on material removal ratio in ultrasonic-magnetorheological compound finishing[J]. Optics and precision engineering, 2007, 15(10): 1583-1588.
王慧军,张飞虎,赵航,栾殿荣,陈亚春. 超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响[J]. 光学精密工程, 2007,15(10):1583-1588 DOI：

WANG Hui-jun, ZHANG Fei-hu, ZHAO Hang, et al. Effect of several processing parameters on material removal ratio in ultrasonic-magnetorheological compound finishing[J]. Optics and precision engineering, 2007, 15(10): 1583-1588. DOI：

摘要

提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置

进行了超声波磁流变复合抛光实验

采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验

研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响。在一定实验条件下

获得的材料去除率为0.139 μm/min

并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线

得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律。

Abstract

A new optical polishing method for aspheric surface

Ultrasonic-Magnetorheological Compound finishing (UMC finishing)

is presented. The machining principle and the experimental procedure of UMC finishing are introduced. Then the material removal profile for optical glass in UMC finishing is measured by a profile meter (Form Talysurf PGI 1240)

and the material removal ratio in UMC finishing is calculated. The effect of several processing parameters (magnetic flux density

ultrasonic vibration amplitude

minimum gap between polishing head and workpiece

rotational speed of polishing head and rotational speed of workpiece) on the material removal ratio for optical glass in UMC finishing is researched. The results show that the material removal ratio in UMC finishing is 0.139 μm/min under some experimental conditions. The rules of material removal ratio for optical glass in UMC finishing are obtained

which provides a foundation for further research of UMC finishing technology.

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