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霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜的初步研究
现代应用光学 | 更新时间:2020-08-12
    • 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜的初步研究

    • Preliminary study of SiC:H surface-modified coatings with end-hall ion source assisted

    • 光学精密工程   2008年16卷第9期 页码:1603-1607
    • 收稿日期:2007-11-07

      修回日期:2007-12-27

      网络出版日期:2008-09-25

      纸质出版日期:2008-09-25

    移动端阅览

  • 王彤彤,高劲松,王笑夷,陈红,郑宣鸣,范镝,申振峰. 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜的初步研究[J]. 光学精密工程, 2008,16(9):1603-1607 DOI:

    Preliminary study of SiC:H surface-modified coatings with end-hall ion source assisted[J]. Optics and precision engineering, 2008, 16(9): 1603-1607. DOI:

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