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基于Zn2SiO4:Mn的硅基成像器件紫外响应增强薄膜制备及其表征
现代应用光学 | 更新时间:2020-08-12
    • 基于Zn2SiO4:Mn的硅基成像器件紫外响应增强薄膜制备及其表征

    • Preparation and UV-enhanced properties of Zn2SiO4:Mn thin-films used to CCDS

    • 光学精密工程   2009年17卷第9期 页码:2106-2111
    • 中图分类号: O484
    • 收稿日期:2008-09-02

      修回日期:2008-11-11

      网络出版日期:2009-09-25

      纸质出版日期:2009-09-25

    移动端阅览

  • 刘猛,张大伟. 基于Zn2SiO4:Mn的硅基成像器件紫外响应增强薄膜制备及其表征[J]. 光学精密工程, 2009,17(9):2106-2111 DOI:

    Preparation and UV-enhanced properties of Zn2SiO4:Mn thin-films used to CCDS[J]. Optics and precision engineering, 2009, 17(9): 2106-2111. DOI:

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