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球面旋涂光刻胶的工艺理论
微纳技术与精密机械 | 更新时间:2020-08-12
    • 球面旋涂光刻胶的工艺理论

    • Process theory of spherical photoresist spin coating

    • 光学精密工程   2011年19卷第8期
    • 中图分类号: TN305.7
    • 收稿日期:2010-12-02

      修回日期:2011-01-10

      网络出版日期:2011-10-21

      纸质出版日期:2011-08-25

    移动端阅览

  • 刘小涵,冯晓国. 球面旋涂光刻胶的工艺理论[J]. 光学精密工程, 2011, 19(8): 0-0. DOI:

    LIU Xiao-Han,FENG Xiao-Guo. Process theory of spherical photoresist spin coating[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2011, 19(8): 0-0. DOI:

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刘小涵
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中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 中国科学院光学系统先进制造 技术重点实验室, 吉林 长春 130033
中国科学院 研究生院,北京 100039
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