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相位调制实现变参量光栅结构的干涉光刻
平面光学元件的设计、制造及应用 | 更新时间:2022-08-16
    • 相位调制实现变参量光栅结构的干涉光刻

    • Interference lithography of space-variant grating structures by phase modulation

    • 光学精密工程   2022年30卷第15期 页码:1836-1844
    • DOI:10.37188/OPE.20223000.0144    

      中图分类号: O436.1;TN305.7
    • 收稿日期:2022-03-29

      修回日期:2022-05-10

      纸质出版日期:2022-08-10

    移动端阅览

  • 路畅,许峰川,许宜申等.相位调制实现变参量光栅结构的干涉光刻[J].光学精密工程,2022,30(15):1836-1844. DOI: 10.37188/OPE.20223000.0144.

    LU Chang,XU Fengchuan,XU Yishen,et al.Interference lithography of space-variant grating structures by phase modulation[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(15):1836-1844. DOI: 10.37188/OPE.20223000.0144.

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相关作者

叶燕
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相关机构

江苏省先进光学制造技术重点实验室 & 教育部现代光学技术重点实验室
中国科学院 合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所
中国科学技术大学
中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所
哈尔滨工业大学 可调谐激光技术国家级重点实验室
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