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基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
现代应用光学 | 更新时间:2022-02-15
    • 基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展

    • Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices

    • 光学精密工程   2022年30卷第1期 页码:12-30
    • DOI:10.37188/OPE.20223001.0012    

      中图分类号: TN305
    • 收稿日期:2021-08-20

      修回日期:2021-09-23

      纸质出版日期:2022-01-15

    移动端阅览

  • 张思琪,周思翰,杨卓俊等.基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展[J].光学精密工程,2022,30(01):12-30. DOI: 10.37188/OPE.20223001.0012.

    ZHANG Siqi,ZHOU Sihan,YANG Zhuojun,et al.Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(01):12-30. DOI: 10.37188/OPE.20223001.0012.

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