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基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11

    • 基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性

    • Double-sided lapping uniformity of LiTaO3 based on three-dimensional trajectory of particles

    • 光学精密工程   2024年32卷第13期 页码：2081-2090

    • DOI：10.37188/OPE.20243213.2081    

      中图分类号： TH161.1;TG73

    • 收稿：2024-01-30，

      修回：2024-03-13，

      纸质出版：2024-07-10

    移动端阅览

  • 薛赛赛,郭晓光,贾玙璠等.基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性[J].光学精密工程,2024,32(13):2081-2090.

    XUE Saisai,GUO Xiaoguang,JIA Yufan,et al.Double-sided lapping uniformity of LiTaO3 based on three-dimensional trajectory of particles[J].Optics and Precision Engineering,2024,32(13):2081-2090. DOI: 10.37188/OPE.20243213.2081.

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