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晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制
信息科学 | 更新时间：2024-11-20
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    • 晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制

    • Rapid and uniform exposure control for wafer motion imaging system

    • “晶圆飞拍成像系统曝光控制新方法，提升成像质量，缩短参数调整时间。”
    • 光学精密工程   2024年32卷第19期 页码：2933-2944

    • DOI：10.37188/OPE.20243219.2933    

      中图分类号： O438

    • 纸质出版日期：2024-10-10，

      收稿日期：2024-06-19，

      修回日期：2024-07-24，

    移动端阅览

  • 王若宇,严富洋,刘暾东.晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制[J].光学精密工程,2024,32(19):2933-2944. DOI： 10.37188/OPE.20243219.2933.

    WANG Ruoyu,YAN Fuyang,LIU Tundong.Rapid and uniform exposure control for wafer motion imaging system[J].Optics and Precision Engineering,2024,32(19):2933-2944. DOI： 10.37188/OPE.20243219.2933.

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