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基于自抗扰控制技术提高航空光电稳定平台的扰动隔离度
信息科学 | 更新时间:2020-08-13
    • 基于自抗扰控制技术提高航空光电稳定平台的扰动隔离度

    • Improvement of isolation degree of aerial photoelectrical stabilized platform based on ADRC

    • 光学精密工程   2014年22卷第8期 页码:2223-2231
    • DOI:10.3788/OPE.20142208.2223    

      中图分类号: TP273
    • 收稿日期:2013-10-06

      修回日期:2013-12-01

      纸质出版日期:2014-08-25

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  • 李贤涛, 张葆, 沈宏海. 基于自抗扰控制技术提高航空光电稳定平台的扰动隔离度[J]. 光学精密工程, 2014,22(8): 2223-2231 DOI: 10.3788/OPE.20142208.2223.

    LI Xian-tao, ZHANG Bao, SHEN Hong-hai. Improvement of isolation degree of aerial photoelectrical stabilized platform based on ADRC[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2014,22(8): 2223-2231 DOI: 10.3788/OPE.20142208.2223.

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中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所
美国加利福尼亚大学洛杉矶分校, 亨利·萨缪理工程和应用科学学院, , 希尔加德大道
中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所
西南技术物理研究所
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