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低温状态下的材料法向发射率测量
现代应用光学 | 更新时间:2020-08-13
    • 低温状态下的材料法向发射率测量

    • Measurement of normal emissivity of materials at low temperature

    • 光学精密工程   2016年24卷第1期 页码:59-64
    • DOI:10.3788/OPE.20162401.0059    

      中图分类号: TB302;TN219
    • 收稿日期:2015-10-20

      修回日期:2015-12-07

      纸质出版日期:2016-01-25

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  • 袁林光, 薛战理, 李宏光等. 低温状态下的材料法向发射率测量[J]. 光学精密工程, 2016,24(1): 59-64 DOI: 10.3788/OPE.20162401.0059.

    YUAN Lin-guang, XUE Zhan-li, LI Hong-guang etc. Measurement of normal emissivity of materials at low temperature[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 2016,24(1): 59-64 DOI: 10.3788/OPE.20162401.0059.

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