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用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析
微纳技术与精密机械 | 更新时间:2020-07-05
    • 用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析

    • Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching

    • 光学 精密工程   2018年26卷第3期 页码:588-596
    • DOI:10.3788/OPE.20182603.0588    

      中图分类号: O436.1;TP202.2
    • 收稿日期:2017-09-13

      录用日期:2017-11-24

      纸质出版日期:2018-03-25

    移动端阅览

  • 沈晨, 谭鑫, 朱继伟, 等. 用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析[J]. 光学 精密工程, 2018,26(3):588-596. DOI: 10.3788/OPE.20182603.0588.

    Chen SHEN, Xin TAN, Ji-wei ZHU, et al. Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching[J]. Optics and precision engineering, 2018, 26(3): 588-596. DOI: 10.3788/OPE.20182603.0588.

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