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大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造
微纳技术与精密机械 | 更新时间:2020-07-05
    • 大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造

    • Wafer-level composite mold for large-area nanoimprint lithography

    • 光学 精密工程   2018年26卷第4期 页码:894-905
    • DOI:10.3788/OPE.20182604.0894    

      中图分类号: TN305.7
    • 收稿日期:2017-07-18

      录用日期:2017-9-9

      纸质出版日期:2018-04-25

    移动端阅览

  • 兰红波, 郭良乐, 许权, 等. 大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造[J]. 光学 精密工程, 2018,26(4):894-905. DOI: 10.3788/OPE.20182604.0894.

    Hong-bo LAN, Liang-le GUO, Quan XU, et al. Wafer-level composite mold for large-area nanoimprint lithography[J]. Optics and precision engineering, 2018, 26(4): 894-905. DOI: 10.3788/OPE.20182604.0894.

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