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适用于光黏工艺的干涉仪公差保证方法
现代应用光学 | 更新时间:2020-08-13
    • 适用于光黏工艺的干涉仪公差保证方法

    • Tolerance assurance of interferometer for optical HCB process

    • 光学 精密工程   2018年26卷第8期 页码:1945-1953
    • DOI:10.3788/OPE.20182608.1945    

      中图分类号: TP394.1;TH691.9
    • 收稿日期:2018-06-18

      录用日期:2018-7-23

      纸质出版日期:2018-08-25

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  • 姚东, 李钰鹏, 赵亚, 等. 适用于光黏工艺的干涉仪公差保证方法[J]. 光学 精密工程, 2018,26(8):1945-1953. DOI: 10.3788/OPE.20182608.1945.

    Dong YAO, Yu-peng LI, Ya ZHAO, et al. Tolerance assurance of interferometer for optical HCB process[J]. Optics and precision engineering, 2018, 26(8): 1945-1953. DOI: 10.3788/OPE.20182608.1945.

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