静电场辅助的微压印光刻技术

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微纳技术与精密机械 | 更新时间：2020-07-07

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- 静电场辅助的微压印光刻技术
- Electrostatic field assisted micro imprint lithography technology
- 刘民哲，王泰升，李和福，刘震宇，陈佐龙，鱼卫星
- 光学精密工程 2017年25卷第3期页码：663-671
- 作者机构：
  1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林长春 130033
  2.中国科学院大学, 北京 100049
  3.中国人民解放军63861部队, 吉林白城 137001
  4.中国科学院西安光学精密机械研究所, 陕西西安 710119
- 作者简介：
  刘民哲 (1988-), 男, 山东莱芜人, 博士研究生, 2011年于内蒙古大学获得学士学位, 主要从事微纳加工工艺及微纳器件制作方面的研究工作。E-mail:liuminzhe_ciomp@126.com
  鱼卫星 (1975-)，男，陕西临潼人，研究员，1998年于西北工业大学获得学士学位，2001年于中科院长春光机所获得硕士学位，2004年于新加坡南洋理工大学获得博士学位，主要从事亚波长光学、微纳光学、表面等离子体光学、微细加工技术、三维微纳加工技术等方面的研究。E-mail：yuwx@opt.ac.cn YU Wei-xing, E-mail:yuwx@opt.ac.cn
- 基金信息：
  国家自然科学基金资助项目(61475156);国家自然科学基金资助项目(61361166004);国家自然科学基金面上项目(51275504);吉林省基金资助项目(20140519002JH);吉林省科技发展基金资助项目(20140519007JH);深圳市科创委基金资助项目(KQCX2015032416183981)
- DOI： 10.3788/OPE.20172503.0663
  中图分类号：
- 录用：2016-10-27 ，
- 稿件说明：
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