聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光

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聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光

现代应用光学 | 更新时间：2020-08-13

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- 聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光
- Polishing method for polyimide membranes based on reactive ion etching
- 杨正，靳志伟，陈建军，饶先花，尹韶云，吴鹏
- 光学精密工程 2019年27卷第2期页码：302-308
- 作者机构：
  1.中国科学院重庆绿色智能技术研究院，重庆 400714
  2.跨尺度制造技术重庆市重点实验室，重庆 400714
- 作者简介：
  杨正(1988-)，男，重庆垫江人，硕士，助理研究员，2010年、2013年于四川大学分别获得学士、硕士学位，主要从事微光学元件的设计与加工。E-mail: cqyangking@cigit.ac.cn
  吴鹏(1982-)，男，湖北武汉人，博士，副研究员，2002年、2010年于华中科技大学分别获得学士、博士学位，主要从事微纳制造、轻量化光学系统、光学设计像差理论和光纤传感的研究，E-mail: wupeng@cigit.ac.cn WU Peng, E-mail: wupeng@cigit.ac.cn
- 基金信息：
  国家自然科学青年基金资助项目(61605208)
- DOI： 10.3788/OPE.20192702.0302
  中图分类号：
- 录用：2018-9-1 ，
- 稿件说明：
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