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考虑磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的研磨盘转速优化
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11
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    • 考虑磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的研磨盘转速优化

    • Optimizing lapping plate rotational speed based on trajectory and pad wear uniformity

    • “固结磨料研磨技术中研磨盘转速是关键参数，华中科技大学研究人员建立了磨粒运动轨迹方程，探索了转速对磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的影响规律，为优化研磨盘转速、提升研磨垫磨损均匀性提供了理论依据和实践参考。”
    • 贾玙璠 ，朱祥龙 ，陈杰 ，蔡引娣 ，康仁科 ，高尚 ，杨垒
    • 光学精密工程 2025年33卷第24期 页码：3864-3874

    • DOI： 10.37188/OPE.20253324.3864     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20253324.3864     

    • 修回：2025-11-19 ，

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南京航空航天大学 机电学院, 江苏省精密与微细制造技术重点实验室