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网络出版日期:1977-10-15,
纸质出版日期:1977-10-15
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林开华. 用电子枪真空蒸发二氧化锆和二氧化硅来制备在玻璃上的保护的增透膜层[J]. 光学精密工程, 1977,(5): 31-33
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1977,(5): 31-33
林开华. 用电子枪真空蒸发二氧化锆和二氧化硅来制备在玻璃上的保护的增透膜层[J]. 光学精密工程, 1977,(5): 31-33 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1977,(5): 31-33 DOI:
用电子枪真空蒸发法淀积在加热到300℃的基片上的双层四分之一波长 ZrO
2
-SiO
膜层和单层 SiO
膜是相当大地改进了玻璃的光透过率(τ
max
~98~90%)和能保护它们在周期性露水凝集作用下
相对湿度98%的环境不受侵蚀。
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